特許
J-GLOBAL ID：201103020008376845

磁気ディスク基板用研磨液組成物

発明者：
佐藤 寛司

佐藤 寛司 について

, 
大島 良暁

大島 良暁 について


出願人/特許権者：
花王株式会社

花王株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-293090
公開番号（公開出願番号）：特開2011-134388
出願日： 2009年12月24日
公開日（公表日）： 2011年07月07日
要約：
【課題】研磨後の基板表面のスクラッチ及びナノ突起欠陥の低減を実現できる磁気ディスク基板用研磨液組成物、及びこれを用いた磁気ディスク基板の製造方法の提供。【解決手段】コロイダルシリカ、複素環内に窒素原子を2個以上含む複素環芳香族化合物、酸、酸化剤及び水を含有する磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、前記コロイダルシリカは、ΔCV値が0〜10%であり、CV90が1〜35%であり、かつ、平均粒径が1〜40nmである磁気ディスク基板用研磨液組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
コロイダルシリカ、複素環内に窒素原子を2個以上含む複素環芳香族化合物、酸、酸化剤及び水を含有する磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、 前記コロイダルシリカは、ΔCV値が0〜10%であり、CV90が1〜35%であり、かつ、平均粒径が1〜40nmであり、 ここで、前記ΔCV値は、動的光散乱法による検出角30°における散乱強度分布に基づく標準偏差を前記散乱強度分布に基づく平均粒径で除して100を掛けた値(CV30)と、動的光散乱法による検出角90°における散乱強度分布に基づく標準偏差を前記散乱強度分布に基づく平均粒径で除して100を掛けた値(CV90)との差の値(ΔCV=CV30-CV90)であり、 前記CV90は、動的光散乱法による検出角90°における散乱強度分布に基づく標準偏差を前記散乱強度分布に基づく平均粒径で除して100を掛けた値であり、 前記平均粒径は、動的光散乱法による検出角90°における散乱強度分布に基づく平均粒径である、磁気ディスク基板用研磨液組成物。
IPC (4件)：
G11B 5/84 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  C03C 19/00
FI (5件)：
G11B5/84 A ,  C09K3/14 550Z ,  B24B37/00 H ,  C09K3/14 550D ,  C03C19/00 Z
Fターム (15件)：
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CA01 ,  3C058CB02 ,  3C058DA17 ,  4G059AA08 ,  4G059AB03 ,  4G059AB09 ,  4G059AB11 ,  4G059AC03 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA09 ,  5D112GA09 ,  5D112GA14
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 研磨用組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-257391   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
  • 基板の製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-090547   出願人：花王株式会社
  • コロイダルシリカの製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-152849   出願人：扶桑化学工業株式会社

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