研磨用組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：恩田博宣 , 恩田誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-257391
公開番号（公開出願番号）：特開2007-092064
出願日： 2006年09月22日
公開日（公表日）： 2007年04月12日
要約：

【課題】磁気ディスク用基板を研磨する用途での使用により適した研磨用組成物を提供する。【解決手段】研磨用組成物は、コロイダルシリカのような砥粒と、クエン酸やオルトリン酸のような酸と、過酸化水素のような酸化剤と、ベンゾトリアゾールのようなアゾール類及びその誘導体から選ばれる化合物とを含有してなる。研磨用組成物は、磁気ディスク用基板を研磨する用途で好適に使用される。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

砥粒と、酸と、酸化剤と、アゾール類及びその誘導体から選ばれる化合物とを含有してなり、磁気ディスク用基板を研磨する用途で使用される研磨用組成物。

IPC (3件)：

C09K 3/14 , B24B 37/00 , G11B 5/84

FI (4件)：

C09K3/14 550C , B24B37/00 H , C09K3/14 550Z , G11B5/84 A

Fターム (7件)：

3C058AA07 , 3C058DA02 , 3C058DA17 , 5D112AA02 , 5D112BA06 , 5D112BA09 , 5D112GA14

引用特許：

出願人引用 (1件)

米国特許第6,818,031号

審査官引用 (6件)

研磨液組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-133650 出願人：花王株式会社
研磨用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-054867 出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
停止化合物を伴う研磨系及びその使用方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-517629 出願人：キャボットマイクロエレクトロニクスコーポレイション

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