特許
J-GLOBAL ID:201103020175196417

マイクロマシンセンサおよび該センサの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 矢野 敏雄 (外3名)
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-227746
公開番号(公開出願番号):特開2000-065665
特許番号:特許第3447625号
出願日: 1999年08月11日
公開日(公表日): 2000年03月03日
請求項(抜粋):
【請求項1】 マイクロマシンセンサの製造方法において、a)半導体基板(2)の上の基板表面領域に犠牲層(3)を形成するステップと、b)半導体材料をエピタキシャル成長させて、該犠牲層(3)の領域の上に広がる平坦な層(5)を形成し、該平坦な層(5)を前記犠牲層(3)の領域では多結晶で成長させるステップと、c)該平坦な層(5)を滑らかにするステップと、d)開口部(7)をエッチングにより形成し、該開口部(7)を適切な材料で充填するステップと、e)前記平坦な層(5)の上に半導体電子回路(11)を取り付けるステップと、f)該開口部(7)内の充填材料と前記犠牲層(3)を除去し、前記半導体基板(2)の背面をエッチングしてセンサ開口部(8)を形成するステップ、を有することを特徴とする、マイクロマシンセンサの製造方法。
IPC (4件):
G01L 9/12 ,  B81B 3/00 ,  B81C 1/00 ,  H01L 41/09
FI (5件):
G01L 9/12 ,  B81B 3/00 ,  B81C 1/00 ,  H01L 41/08 C ,  H01L 41/08 U
引用特許:
審査官引用 (4件)
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