特許
J-GLOBAL ID:201103020588485387

気体透過性物質を利用する細胞を培養する方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 恩田 博宣 ,  恩田 誠 ,  本田 淳 ,  池上 美穂
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-104616
公開番号(公開出願番号):特開2011-147460
出願日: 2011年05月09日
公開日(公表日): 2011年08月04日
要約:
【課題】細胞培養のための気体透過性装置及び方法を提供する。【解決手段】複数の高さに培地を有し、且つ培地容積に対する気体透過性表面領域の或る割合を有する、細胞培養装置及び細胞培養方法を含む。これらの装置及び方法は、細胞培養効率及びスケールアップ効率を改善することを可能にする。【選択図】 図1A
請求項(抜粋):
細胞を培養するための方法において、 a)単区画からなる細胞培養装置であって、前記単区画の少なくとも底部の少なくとも一部が非孔性気体透過性材料からなる細胞培養装置を形成する工程と、 b)前記単区画に一定量の培地と細胞を投入する工程と、 c)前記細胞培養装置が所定の位置に配備されたときに前記培地が前記単区画の最も低い面をなす前記底部の最も低い点から2.0cmを越えて存在するように前記培地の分量を調節する工程と、 d)前記細胞培養装置を細胞の培養のために適切な一定の組成を有する周囲気体を有する設置の場所に設置する工程であって、前記細胞培養装置は前記底部が前記単区画の前記最も低い面をなす方向に配備すべく、前記細胞培養装置を設置する工程と、 e)前記培地を混合し、または攪拌するための設計となっている道具によって前記培地を混合することなく、静止培養を行う工程とを備える、方法。
IPC (2件):
C12N 1/00 ,  C12N 5/10
FI (2件):
C12N1/00 A ,  C12N5/00 102
Fターム (10件):
4B029AA02 ,  4B029AA08 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029GB07 ,  4B065AA90X ,  4B065AC14 ,  4B065BA08 ,  4B065BC05 ,  4B065CA25
引用特許:
審査官引用 (4件)
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