特許
J-GLOBAL ID:201103020631124636

プラズマCVD装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 安田 敏雄 ,  安田 幹雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-011391
公開番号(公開出願番号):特開2011-149059
出願日: 2010年01月21日
公開日(公表日): 2011年08月04日
要約:
【課題】 プラズマCVD装置1において、基材Wの端部の波状変形や異常なアーク放電を防止する。【解決手段】本発明のプラズマCVD装置1は、真空チャンバと、真空チャンバ内に配備されると共に電源の両極が接続され且つ成膜対象であるシート状の基材Wが巻き掛けられる真空チャンバから絶縁された成膜ロール2と、基材Wが巻き掛けられていない成膜ロール2の端部2a、2bを成膜ロール2近傍に発生したプラズマ5から遮蔽する遮蔽部材4と、を備え、成膜ロール2の軸方向の端部2a、2bは中央部2cより小径に形成されていて、端部2a、2bの外周面と中央部2cの外周面との間には段差面2dが設けられており、遮蔽部材4がその外周面が成膜ロール2の中央部2cの外周面と面一になるように成膜ロール2の端部を覆っており、遮蔽部材4と段差面2dとの間には成膜ロール2の軸方向に基材Wが成膜ロール2に当接しない間隙が備えられている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
真空チャンバと、当該真空チャンバ内に配備されると共に電源の両極が接続され且つ成膜対象であるシート状の基材が巻き掛けられる真空チャンバから絶縁された成膜ロールと、前記基材が巻き掛けられていない成膜ロールの端部を成膜ロール近傍に発生したプラズマから遮蔽する遮蔽部材と、を備えたプラズマCVD装置であって、 前記成膜ロールの軸方向の端部は中央部より小径に形成されていて、当該端部の外周面と中央部の外周面との間には段差面が設けられており、 前記遮蔽部材は、当該遮蔽部材の外周面が前記成膜ロールの中央部の外周面と面一になるように、前記成膜ロールの端部を覆っており、 前記遮蔽部材と成膜ロールの段差面との間には、前記成膜ロールの軸方向に前記基材が前記成膜ロールに当接しない間隙が備えられていることを特徴とするプラズマCVD装置。
IPC (4件):
C23C 16/54 ,  C23C 16/505 ,  C23C 16/515 ,  H05H 1/46
FI (4件):
C23C16/54 ,  C23C16/505 ,  C23C16/515 ,  H05H1/46 M
Fターム (15件):
4K030BA43 ,  4K030BA44 ,  4K030CA06 ,  4K030CA07 ,  4K030CA12 ,  4K030CA17 ,  4K030FA03 ,  4K030GA14 ,  4K030JA03 ,  4K030KA12 ,  4K030KA15 ,  4K030KA16 ,  4K030KA18 ,  4K030KA30 ,  4K030KA46
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • プラズマCVD装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-221593   出願人:日立マクセル株式会社
  • プラズマCVD装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2007-031585   出願人:株式会社神戸製鋼所

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