特許
J-GLOBAL ID:201103020891107948

ポリマー基板マイクロ電極と電極内蔵ポリマー基板マイクロチャンネルチップの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-142434
公開番号(公開出願番号):特開2001-324471
特許番号:特許第3738173号
出願日: 2000年05月15日
公開日(公表日): 2001年11月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】ポリマー基板に金属を蒸着し、熱処理することにより得られる金属層上にフォトレジストを塗布した後、リソグラフィーを行い、金属をエッチングすることを特徴とするポリマー基板マイクロ電極の製造方法。
IPC (3件):
G01N 27/416 ( 200 6.01) ,  G01N 27/30 ( 200 6.01) ,  G01N 37/00 ( 200 6.01)
FI (3件):
G01N 27/46 M ,  G01N 27/30 B ,  G01N 37/00 101
引用特許:
出願人引用 (5件)
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