特許
J-GLOBAL ID：201103021419682536
感光材料及びマーキング方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小林 和憲
, 飯嶋 茂
, 小林 英了
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-342480
公開番号（公開出願番号）：特開2003-140308
特許番号：特許第3911149号
出願日： 2001年11月07日
公開日（公表日）： 2003年05月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】感光材料のベース層の表面に形成された厚みSの乳剤層にビームスポット形状が略円形のレーザービームを照射してドットパターンを形成するとともに、このドットパターンを縦横に配列して文字又はマークを印字するマーキング方法において、
前記ドットパターンが、感光材料の厚み方向に関してS+10μm以下の凹凸量を有し、算術平均表面粗さが0.2μm〜1.0μmとなるように、前記レーザービームの発振波長を9μm〜10μm、前記ドットパターン一個あたりの前記レーザービームの照射時間を3μ秒〜20μ秒とすることを特徴とするマーキング方法。
IPC (4件)：
G03C 1/00 ( 200 6.01)
, B41M 5/26 ( 200 6.01)
, B41J 2/44 ( 200 6.01)
, G03C 5/16 ( 200 6.01)
G03C 1/00 K
, B41M 5/26 S
, B41J 3/00 Q
, G03C 5/16
