特許
J-GLOBAL ID：201103022340348220
基板洗浄装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-272577
公開番号（公開出願番号）：特開2002-079192
特許番号：特許第3638511号
出願日： 2000年09月08日
公開日（公表日）： 2002年03月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 洗浄液をノズルから基板面に供給して洗浄処理を施す基板洗浄装置であって、 前記ノズルに液体を供給する液体供給手段と、 前記ノズルにオゾンガス(O3 )を供給する気体供給手段とを備え、 かつ、前記液体供給手段から供給された液体をミスト化し、このミスト化された液体に前記気体供給手段から供給されたオゾンガス(O3 )を溶解させて洗浄液を生成する洗浄液生成手段をノズル内に備えたことを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (4件)：
B08B 3/02
, B08B 3/08
, G09F 9/00
, H01L 21/304
B08B 3/02 C
, B08B 3/08 A
, G09F 9/00 338
, H01L 21/304 643 C
, H01L 21/304 647 Z
