特許
J-GLOBAL ID：201103022522312166
情報記録ディスク用スタンパー、その製造方法、情報記録ディスク、および情報記録ディスク製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-134073
公開番号（公開出願番号）：特開2000-322780
特許番号：特許第4114761号
出願日： 1999年05月14日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 表面にナノメートルオーダーのピットを複数形成して情報を記録する情報記録ディスクをスタンパーを用いたプレス方式で製造する方法において、
前記情報記録ディスクのピットパターンに対応する凹凸面(以下、ピットパターン凹凸面と呼ぶ)を、シリコン基板表面に設けられたシリコン酸化膜にフォトリソグラフィ法を用いて形成し、
前記シリコン酸化膜に形成された前記ピットパターン凹凸面と、第1の過冷却液体温度域を有する第1のアモルファス合金とを対向させて、前記第1のアモルファス合金を前記第1の過冷却液体温度域に保ちつつ前記ピットパターン凹凸面にインプリント成形し、これにより前記第1のアモルファス合金に前記ピットパターン凹凸面が反転された成型転写面を形成することにより、前記スタンパーを製造し、
前記情報記録ディスクの記録層を第2の過冷却液体温度域を有する第2のアモルファス合金で構成するとともに、前記記録層を構成する前記第2のアモルファス合金のガラス遷移温度を前記スタンパーの成形転写面の前記第1のアモルファス合金のガラス遷移温度よりも低い温度とし、
前記記録層を前記成形転写面に押圧して、前記記録層に前記ピットパターンを形成する際、前記記録層の温度を、前記記録層を構成する前記第2のモルファス合金の前記第2の過冷却液体温度域であって、前記スタンパーの成形転写面の前記第1のアモルファス合金のガラス遷移温度より低い温度に保つことを特徴とする情報記録ディスクの製造方法。
IPC (2件)：
G11B 7/26 ( 200 6.01)
, G11B 7/243 ( 200 6.01)
G11B 7/26 511
, G11B 7/26 521
, G11B 7/24 511
