排ガス処理装置及び基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：長谷川芳樹 , 山田行一 , 沖本一暁
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-124315
公開番号（公開出願番号）：特開2000-317265
特許番号：特許第3709432号
出願日： 1999年04月30日
公開日（公表日）： 2000年11月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】排ガス源から第1の真空ポンプにより吸引され排出された排ガスを処理する排ガス処理装置であって、入口部が前記第1の真空ポンプの吐出口に接続される誘電体材料から成る分解チャンバと、前記分解チャンバ内に配置された金属材料から成る棒状又はブロック状の発熱体と、前記分解チャンバの内部に誘導電磁場を形成すべく該分解チャンバの外周に配置されたコイルアンテナと、前記コイルアンテナに高周波電力を印加する高周波電源と、前記分解チャンバ内に酸素含有ガスを供給する酸素供給手段と、吸込口が前記分解チャンバの出口部に接続された第2の真空ポンプとを備える排ガス処理装置。

IPC (4件)：