特許

J-GLOBAL ID：201103024973472119

プラズマ処理装置

発明者： 内海 省吾 ,  松井 卓也
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 石原 勝
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-177684
公開番号（公開出願番号）：特開2001-353440
特許番号：特許第4093704号
出願日： 2000年06月14日
公開日（公表日）： 2001年12月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 誘電体からなる天板を有する真空容器と、真空容器内にガスを供給するガス供給手段と、真空容器内を排気する排気手段と、真空容器内の基板ステージと、天板上に配設されたコイルを備え、真空容器内にコイルから電磁波を放射することでプラズマを発生させ、基板ステージ上に載置された基板を処理するプラズマ処理装置において、 天板中心部から放射状に延設された複数のコイル取付部材に、コイルが丁度嵌入係合するスリットを有する円柱状のコイル固定支柱を取付けて構成される、コイル形状の再現性を有するコイル固定手段が設けられたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

B01J 19/08 ( 200 6.01) ,  C23C 16/507 ( 200 6.01) ,  H01L 21/205 ( 200 6.01) ,  H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  H05H 1/46 ( 200 6.01)

FI (5件)：

B01J 19/08 H ,  C23C 16/507 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 101 C ,  H05H 1/46 L

引用特許：

出願人引用 (4件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-060146   出願人：株式会社サムコインターナショナル研究所
• プラズマ処理方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-143366   出願人：松下電器産業株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-297994   出願人：松下電器産業株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-273141   出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (4件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-060146   出願人：株式会社サムコインターナショナル研究所
• プラズマ処理方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-143366   出願人：松下電器産業株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-297994   出願人：松下電器産業株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-273141   出願人：東京エレクトロン株式会社