特許
J-GLOBAL ID：201103025028581030
プラズマ処理装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人 武和国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-278646
公開番号（公開出願番号）：特開2011-124274
出願日： 2009年12月08日
公開日（公表日）： 2011年06月23日
要約：
【課題】異物あるいは金属汚染の発生を抑制し、長期にわたって連続運転することのできるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】所定の圧力に減圧排気される処理室と、該処理室内に配置され、試料を静電吸着して保持する静電チャックを備えた吸着装置と、該吸着装置の温度を調整する温度調整手段と、前記吸着装置と該吸着装置上に載置された試料の間に伝熱ガスを供給する伝熱ガス供給手段と、前記処理室内にプラズマを生成する手段を備え、生成されたプラズマ用いて前記吸着装置上に載置した試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、前記吸着装置2の試料載置面の外周の試料載置面より低い部分を保護するリング状の保護カバー118を備え、該カバーは静電チャックの吸着面の外周に設けたV字型の切欠き400に間隔を空けて嵌合するV字型の張り出し401をリングの内周側に備えた。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
所定の圧力に減圧排気される処理室と、
該処理室内に配置され、試料を静電吸着して保持する静電チャックを備えた吸着装置と、
該吸着装置の温度を調整する温度調整手段と、
前記吸着装置と該吸着装置上に載置された試料の間に伝熱ガスを供給する伝熱ガス供給手段と、
前記処理室内にプラズマを生成する手段を備え、生成されたプラズマ用いて前記吸着装置上に載置した試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、
前記吸着装置の試料載置面の外周の試料載置面より低い部分を保護するリング状の保護カバーを備え、該カバーは静電チャックの吸着面の外周に設けたV字型の切欠きに間隔を空けて嵌合するV字型の張り出しをリングの内周側に備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/683
, H01L 21/306
H01L21/68 R
, H01L21/302 101G
5F004AA14
, 5F004BA14
, 5F004BB07
, 5F004BB22
, 5F004BB23
, 5F004BB25
, 5F004BB26
, 5F004BB28
, 5F004BB29
, 5F004CA06
, 5F004DA00
, 5F004DA01
, 5F004DA04
, 5F004DA16
, 5F004DA18
, 5F004DA26
, 5F004DB00
, 5F004DB01
, 5F031CA02
, 5F031HA16
, 5F031KA14
, 5F031MA32
, 5F031NA04
, 5F031PA26
