特許
J-GLOBAL ID：201103025146147514

微小立体構造物、その製造方法及びその製造装置

発明者：
松井 真二

松井 真二 について


出願人/特許権者：
独立行政法人科学技術振興機構

独立行政法人科学技術振興機構 について


代理人 (1件)： 清水 守
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-286337
公開番号（公開出願番号）：特開2001-107252
特許番号：特許第4137317号
出願日： 1999年10月07日
公開日（公表日）： 2001年04月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 微小立体構造物の製造方法において、 (a)試料上に原料ガスを供給しながら集束イオンビームを照射し、堆積物を形成する工程と、 (b)前記堆積物にイオンが当たって二次電子を放出し、該二次電子により前記堆積物上にテラスを形成する工程と、 (c)前記テラスの所望の方向に集束イオンビームを焦点位置制御装置からの設定量に基づいて振る工程と、 (d)該振られた量に基づいて、前記テラス上の変位した位置に上層の堆積物を形成する工程と、 (e)順次上記(b)から(d)工程を繰り返し、設定された縦、横、高さを有する外形の大きさがμmからnmのオーダーの微小立体構造物を形成する工程とを施すことを特徴とする微小立体構造物の製造方法。
IPC (4件)：
C23C 16/48 ( 200 6.01) ,  B81C 1/00 ( 200 6.01) ,  C23C 16/27 ( 200 6.01) ,  C23C 16/52 ( 200 6.01)
FI (4件)：
C23C 16/48 ,  B81C 1/00 ,  C23C 16/27 ,  C23C 16/52
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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