流体分注装置および方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人谷・阿部特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-500287
公開番号（公開出願番号）：特表2011-528979
出願日： 2009年03月17日
公開日（公表日）： 2011年12月01日
要約：

流体を基板に選択的に分注する装置および方法が記述される。装置は、非平面基板や回路基板などの基板(20;60;70;90;100)を保持するためのホルダー(18)を備える。接着剤(62;74)などの流体を分注するための流体ディスペンサー(12)や流体ディスペンサーを移動させるための位置決め装置(10)も備える。位置決め装置(10)および流体ディスペンサー(12)は、ホルダー(18)により保持された基板(20;60;70;90;100)に流体が分注されることを可能にするために設けられる。ホルダー(18)は、ホルダー(18)により保持された基板(20;60;70;90;100)を少なくとも1つの軸線回りに傾斜可能にする傾斜メカニズム(22、24)を備える。使用において、基板(20;60;70;90;100)は、流体ディスペンサー(12)により流体が分注されるべき基板の領域が少なくとも略水平であり、それにより、重力の下での望まれない流体の流れを防止するように傾けられる。

請求項（抜粋）：

基板上に流体を選択的に分注するための装置であって、基板を保持するためのホルダー流体を分注するための流体ディスペンサーと、前記流体ディスペンサーを移動させるための位置決め装置と、を備え、前記位置決め装置および流体ディスペンサーは、前記ホルダーにより保持された基板に流体が分注されることを可能にするように配置され、前記ホルダーは、当該ホルダーにより保持された基板を、少なくとも1つの軸線回りに傾斜可能にする傾斜メカニズムを備えることを特徴とする装置。

IPC (6件)：

B05C 5/00 , H05K 3/34 , B05C 13/02 , B05D 1/26 , H01L 21/52 , H01L 21/56

FI (7件)：

B05C5/00 101 , H05K3/34 507D , H05K3/34 505B , B05C13/02 , B05D1/26 Z , H01L21/52 G , H01L21/56 E

Fターム (50件)：

3C707AS13 , 3C707BS24 , 3C707NS03 , 4D075AC06 , 4D075AC09 , 4D075AC92 , 4D075AC93 , 4D075BB14Y , 4D075CA47 , 4D075DA06 , 4D075DA10 , 4D075DA13 , 4D075DB01 , 4D075DB31 , 4D075DC15 , 4D075DC18 , 4D075DC21 , 4D075EA05 , 4D075EA07 , 4D075EA14 , 4D075EA15 , 4D075EB11 , 4D075EB31 , 4F041AA02 , 4F041AA05 , 4F041AB01 , 4F041BA21 , 4F042AA02 , 4F042AA06 , 4F042DF05 , 4F042DF28 , 4F042DF29 , 4F042DF33 , 4F042DF35 , 5E319AA03 , 5E319AA07 , 5E319AB05 , 5E319AC20 , 5E319BB05 , 5E319CC44 , 5E319CC70 , 5E319CD27 , 5E319CD35 , 5E319GG15 , 5F047BA01 , 5F047BB11 , 5F047BB16 , 5F047FA22 , 5F061BA03 , 5F061CA04

引用特許：

審査官引用 (9件)

特許第6527905号
ペースト塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-173295 出願人：株式会社リコー
立体表面記録装置および立体表面記録方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-116494 出願人：ミノルタ株式会社

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