特許
J-GLOBAL ID:201103026162787716

半導体工場

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 古谷 史旺 ,  鈴木 榮祐
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-225108
公開番号(公開出願番号):特開2001-049885
特許番号:特許第3884190号
出願日: 1999年08月09日
公開日(公表日): 2001年02月20日
請求項(抜粋):
【請求項1】 主要製造機器を設置する製造階と、 この製造階の下方で前記主要製造機器にユーティリティ(電気、冷却水、ガス、その他)を供給する配管、電気ケーブルやダクトを設置するユーティリティ階とを区画する床を備え、 前記床は、その主要部を鉄筋または鉄骨またはその両方の補強のコンクリート(RCまたはSRC)で製造され、4方向を大梁で囲まれた空間または3方向を大梁で囲まれるとともに1方向を小梁で囲まれた空間または平行に配置された大梁とこれら大梁に直交するとともに平行に配置された小梁で囲まれた空間に、振動を制御する小梁と1以上のパネルを交互に設置し、 前記パネルには、前記主要製造機器にユーティリティ(電気、冷却水、ガス、その他)を供給する配管、電気ケーブルやダクトを貫通する穴が形成され、 前記主要製造機器は、レベル調整機構を持つ荷重支持脚部を設けてまたはレベル調整機構を持つ台に載置して前記床面に設置され、前記パネルの穴を介して前記主要製造機器にユーティリティ(電気、冷却水、ガス、その他)を供給する配管、電気ケーブルやダクトに接続されている ことを特徴とする半導体工場。
IPC (1件):
E04H 5/02 ( 200 6.01)
FI (1件):
E04H 5/02 A
引用特許:
審査官引用 (3件)

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