特許
J-GLOBAL ID：201103026363841905

誘導結合型ドライエッチング装置

発明者：
民谷 直幹

民谷 直幹 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-195271
公開番号（公開出願番号）：特開2001-023967
特許番号：特許第4106816号
出願日： 1999年07月09日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 誘導結合型ドライエッチング装置のプラズマ処理室内に電位の基点となるもので、該プラズマ処理室の側壁に設けられた貫通孔に該プラズマ処理室の側壁の外側より埋め込まれた柱状のアースポイント、または該プラズマ処理室の側壁の内側に設けられたネジ穴にネジ込まれたボルト形状のアースポイントが設置されている ことを特徴とする誘導結合型ドライエッチング装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  C23F 4/00 ( 200 6.01) ,  H05H 1/46 ( 200 6.01)
FI (3件)：
H01L 21/302 101 C ,  C23F 4/00 A ,  H05H 1/46 L
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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