特許

J-GLOBAL ID：201103026564767673

含フッ素単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法

発明者： 長谷川 幸士 ,  金生 剛 ,  西 恒寛 ,  大橋 正樹 ,  渡辺 武
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-182027
公開番号（公開出願番号）：特開2011-042789
出願日： 2010年08月17日
公開日（公表日）： 2011年03月03日
要約：

【課題】機能性材料、医薬・農薬等の原料として、中でも感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための含フッ素単量体、及び、該含フッ素単量体を極めて容易にかつ安価に製造可能な製造方法を提供する。【解決手段】相当するフッ素アルコール化合物をエステル化して得られる一般式(5)で示される含フッ素単量体。(R1はH、又は炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状の一価炭化水素基を示し、この時、-CH2-は-O-又は-C(=O)-に置換されていてもよい。R3、R4はそれぞれH、又は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状又は環状の一価炭化水素基を示し、R5はH、F、-CH3又は-CF3を示す。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(4)

IPC (9件)：

C08F 20/24 ,  C07C 69/54 ,  C07C 69/753 ,  C08F 32/00 ,  C08F 34/02 ,  C08G 61/08 ,  C08G 61/12 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (9件)：

C08F20/24 ,  C07C69/54 Z ,  C07C69/753 C ,  C08F32/00 ,  C08F34/02 ,  C08G61/08 ,  C08G61/12 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (103件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AH11 ,  2H125AH14 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AJ13X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ53X ,  2H125AJ54X ,  2H125AJ55X ,  2H125AJ58X ,  2H125AJ59X ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM66P ,  2H125AM99P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN62P ,  2H125AN86P ,  2H125AN88P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006AC48 ,  4H006BJ30 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71 ,  4H006BN10 ,  4H006KA14 ,  4H006KC14 ,  4H006KC20 ,  4J032BA07 ,  4J032BA25 ,  4J032BB01 ,  4J032BB03 ,  4J032BB06 ,  4J032CA34 ,  4J032CA43 ,  4J032CA45 ,  4J032CB04 ,  4J032CB05 ,  4J032CC03 ,  4J032CD03 ,  4J032CG00 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AR09P ,  4J100AR11P ,  4J100AR32P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA05P ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06P ,  4J100BA06Q ,  4J100BA10P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA20P ,  4J100BA20Q ,  4J100BA22P ,  4J100BB18P ,  4J100BC03P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100FA03 ,  4J100FA09 ,  4J100FA11 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 含フッ素重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-222530   出願人：セントラル硝子株式会社, 東ソ-・エフテック株式会社
• (メタ)アクリル酸系重合体および感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-066461   出願人：JSR株式会社
• 高分子化合物、レジスト保護膜材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-012135   出願人：信越化学工業株式会社