特許
J-GLOBAL ID:201103026689290399

光学スキャナの位置補正方法及び光学スキャナ補正装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡辺 喜平
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-086680
公開番号(公開出願番号):特開2000-283717
特許番号:特許第3356105号
出願日: 1999年03月29日
公開日(公表日): 2000年10月13日
請求項(抜粋):
【請求項1】 光学スキャナによりスキャンされたレーザビーム光が照射される対象物を搭載したステージの微小な位置変化量を、当該光学スキャナへフィードバックして、当該レーザビーム光のスキャン変位を補正する、光学スキャナの位置補正方法であって、前記ステージの設定位置を示す設定データを設定しておき、前記ステージの位置を検出して検出データを生成し、前記検出データと前記設定データとを比較して、当該ステージの位置変化量を求め、前記位置変化量を、前記光学スキャナによるスキャン変位の分解能に対応したゲインに調整して変位データを生成し、前記変位データと光学スキャナの位置信号とから、前記スキャン変位を補正した駆動信号を生成し、前記光学スキャンを駆動することを特徴とする光学スキャンの位置補正方法。
IPC (1件):
G01B 11/00
FI (1件):
G01B 11/00 A
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 描画装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-239360   出願人:旭光学工業株式会社
  • パターン検出方法及び装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-321096   出願人:株式会社ニコン

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