特許

J-GLOBAL ID：201103026961968049

基板処理装置

発明者： 立山 清久 ,  元田 公男
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 佐々木 聖孝
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-202631
公開番号（公開出願番号）：特開2003-017395
特許番号：特許第3763125号
出願日： 2001年07月03日
公開日（公表日）： 2003年01月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 被処理基板をほぼ水平に載せて搬送するための搬送体を水平方向に敷設してなる搬送路と、 前記搬送路上で前記基板を搬送するために前記搬送体を駆動する搬送駆動手段と、 前記搬送路上の前記基板の被処理面に所定の処理液を供給するための1つまたは複数のノズルを含む処理液供給手段と、 前記搬送路上の所定位置で前記基板の被処理面から液を吸い取るための吸い取り手段と、 前記搬送路上の前記所定位置付近で前記基板を搬送路幅方向において所定の高さに規正する基板高さ規正手段と を有し、前記基板高さ規正手段が、 前記搬送路上の前記基板の裏面と対向するように前記搬送路よりも低い所定の高さ位置で搬送路幅方向に延在する多数の通気孔を有する回転可能な中空円筒状のローラと、 前記ローラを回転駆動するローラ駆動手段と、 前記ローラの中に同軸に固定配置された多数の通気孔を有する中空円筒体と、 前記中空円筒体の内部空間に接続されたバキューム吸引力を与える第1のバキューム手段と を備える基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  B05C 11/10 ( 200 6.01) ,  B65G 49/06 ( 200 6.01) ,  G03F 7/30 ( 200 6.01) ,  H01L 21/677 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01L 21/30 569 D ,  B05C 11/10 ,  B65G 49/06 Z ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/68 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-200657   出願人：日本電気株式会社
• 洗浄液吸引装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-356328   出願人：シャープ株式会社