特許
J-GLOBAL ID：201103028226522633

静電荷像現像用トナー外添剤

発明者：
工藤 宗夫

工藤 宗夫 について

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田中 正喜

田中 正喜 について

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坂詰 功晃

坂詰 功晃 について

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一戸 省二

一戸 省二 について

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浅井 光雄

浅井 光雄 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 岩見谷 周志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-369311
公開番号（公開出願番号）：特開2000-330328
特許番号：特許第3927741号
出願日： 1999年12月27日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】一般式(I):Si(OR3)4 (但し、R3は同一または異種の炭素原子数1〜6の1価炭化水素基) で示されるシラン化合物およびその加水分解縮合物から選択される1種または2種以上の化合物を親水性溶媒、水、並びに塩基性化合物の混合溶液中で加水分解、縮合することによって親水性シリカ微粒子分散液を得る工程; 得られた親水性シリカ微粒子分散液に水を添加し、親水性溶媒を留去し水性分散液に変換し、微粒子表面に残存するアルコキシ基を完全に加水分解する工程; このようにして処理された親水性シリカ微粒子水性分散液に、 一般式(II):R2Si(OR4)3 (但し、R2は炭素原子数1〜20の1価炭化水素基、R4は同一または異種の炭素原子数1〜6の1価炭化水素基) で示されるシラン化合物およびその加水分解縮合物から選択される1種または2種以上の化合物を添加し親水性シリカ微粒子表面をコーティングし、疎水性シリカ微粒子を得る工程; 該疎水性シリカ微粒子水性分散液にケトン系溶媒を添加し水を留去し疎水性シリカ微粒子ケトン系溶媒分散液に変換する工程;並びに、 該疎水性シリカ微粒子ケトン系溶媒分散液に、 一般式(III):R13SiNHSiR13 (但し、R1は同一または異種の炭素原子数1〜6の1価炭化水素基) で示されるシラザン化合物、および 一般式(IV):R13SiX (但し、R1は一般式(III)に同じ。XはOH基または加水分解性基) で示されるシラン化合物から選ばれる化合物を添加し、反応させてシリカ微粒子表面に残存するシラノール基をトリアルキルシリル化しさらに高度に疎水化する工程 によって得られた球状の疎水性シリカ微粒子であって、下記の条件(i)および(ii): (i)室温で液体であり、誘電率が1〜40F/mである有機化合物とシリカ系微粒子とを5対1の重量比で混合し振とうした際に、該シリカ系微粒子が前記有機化合物中に均一に分散する; (ii)該シリカ系微粒子をメタノールに分散した分散液からメタノールをエバポレータで加熱下留去した後、100°Cの温度で2時間保持した際に、1次粒子として残存する1次粒子量の当初存在した1次粒子量に対する比率が20%以上である; を満たす、 1次粒子の平均の粒子径が0.01〜5ミクロンの球状の疎水性シリカ微粒子からなることを特徴とする静電荷像現像用トナー外添剤。
IPC (2件)：
G03G 9/08 ( 200 6.01) ,  C01B 33/18 ( 200 6.01)
FI (3件)：
G03G 9/08 371 ,  G03G 9/08 375 ,  C01B 33/18 C
引用特許：
審査官引用 (23件)
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