特許
J-GLOBAL ID：201103028300826909
超親水性薄膜及びその形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
栗原 浩之
, 村中 克年
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-250592
公開番号（公開出願番号）：特開2006-063426
特許番号：特許第4662122号
出願日： 2004年08月30日
公開日（公表日）： 2006年03月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 二酸化チタンと、二酸化ケイ素及び三酸化タングステンの少なくとも1種とからなり、その組成が一般式(1-x-y)TiO2・xSiO2・yWO3で表して
0≦x≦0.2、
0≦y≦0.3且つ
0<x+y≦0.35
である酸化物の粒径が1〜100μmの粒子をプラズマ溶射することにより基体上に0.05〜1mmの厚さの超親水性薄膜を形成することを特徴とする超親水性薄膜の形成方法。
IPC (7件)：
C23C 4/10 ( 200 6.01)
, B32B 9/00 ( 200 6.01)
, C23C 4/06 ( 200 6.01)
, C23C 4/12 ( 200 6.01)
, C23C 4/18 ( 200 6.01)
, C23C 8/16 ( 200 6.01)
, C23C 28/00 ( 200 6.01)
C23C 4/10
, B32B 9/00 A
, C23C 4/06
, C23C 4/12
, C23C 4/18
, C23C 8/16
, C23C 28/00 B
