特許

J-GLOBAL ID：201103028328397450

フォーカスリング及び基板載置システム

発明者： 北島 次雄 ,  小林 義之 ,  渡辺 淳 ,  岡田 拓也
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  電気化学工業株式会社
代理人 (2件)： 別役 重尚 ,  村松 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-044345
公開番号（公開出願番号）：特開2011-181677
出願日： 2010年03月01日
公開日（公表日）： 2011年09月15日
要約：

【課題】プラズマ処理に適した膜厚の伝熱シートを有するフォーカスリングを提供する。【解決手段】プラズマ処理装置において、フォーカスリング25は、冷媒室を有するサセプタ12に載置されたウエハWの外周を囲い、サセプタ12と接触するサセプタ接触面40と、該サセプタ接触面40に形成された伝熱シート38とを備え、伝熱シート38は、熱伝導率が0.5〜5.0W/m・Kの範囲にあり、シリコンを成分に含む耐熱性の粘着剤やゴム、及び該粘着剤やゴムに混入された酸化物、窒化物または炭化物のセラミックスフィラーを、該粘着剤やゴム中に25〜60体積%で含み、伝熱シート38の膜厚は40μm以上且つ100μm未満である。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

温調機構を有する載置台に載置された基板の外周を囲い、前記載置台と接触する接触面と、該接触面に形成された伝熱シートとを備えるフォーカスリングであって、 前記伝熱シートは、有機材料及び該有機材料に混入された伝熱材を含み、前記伝熱シートの膜厚は40μm以上且つ100μm未満であることを特徴とするフォーカスリング。

IPC (1件)：

H01L 21/306

FI (3件)：

H01L21/302 101G ,  H01L21/302 101B ,  H01L21/302 101R

Fターム (9件)：

5F004AA01 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BA09 ,  5F004BB18 ,  5F004BB22 ,  5F004BB23 ,  5F004BB25 ,  5F004BB29

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 基板処理装置及びフォーカスリング
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-011706   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 半導体支持装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-075818   出願人：日本碍子株式会社
• 放熱部材及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-012770   出願人：電気化学工業株式会社