特許
J-GLOBAL ID：200903057946991780

基板処理装置及びフォーカスリング

発明者：
宮川 正章

宮川 正章 について

, 
西村 栄一

西村 栄一 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 別役 重尚 ,  村松 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-011706
公開番号（公開出願番号）：特開2008-177493
出願日： 2007年01月22日
公開日（公表日）： 2008年07月31日
要約：
【課題】フォーカスリング及び載置台の間の熱伝達効率を十分に改善することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置10は、ウエハWを収容するチャンバ11と、該チャンバ11内に配置されるサセプタ12と、サセプタ12の上部に配置され且つウエハWを載置する静電チャック22と、載置されたウエハWの周縁部を囲うように静電チャック22に載置されるフォーカスリング24とを備え、フォーカスリング24における静電チャック22との接触面24aに、印刷処理によって樹脂からなる熱伝達膜39が形成されている。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板を収容する収容室と、該収容室内に配置されて前記基板を載置する載置台と、前記載置された基板の周縁部を囲うように前記載置台に載置される環状のフォーカスリングとを備え、前記収容室内は減圧される基板処理装置において、 前記フォーカスリングにおける前記載置台との接触面に、印刷処理によって熱伝達膜が形成されていることを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/306 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/683
FI (3件)：
H01L21/302 101G ,  C23F4/00 A ,  H01L21/68 R
Fターム (23件)：
4K057DA13 ,  4K057DB06 ,  4K057DD01 ,  4K057DG20 ,  4K057DM05 ,  4K057DM13 ,  4K057DM31 ,  4K057DM35 ,  4K057DN01 ,  5F004AA01 ,  5F004BB12 ,  5F004BB22 ,  5F004BB23 ,  5F004BB25 ,  5F004CA04 ,  5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA16 ,  5F031HA38 ,  5F031HA39 ,  5F031MA32 ,  5F031PA11
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 被処理体の載置装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-323208   出願人：東京エレクトロン株式会社
審査官引用 (3件)

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