特許

J-GLOBAL ID：201103028541301742

熱処理装置及びその洗浄方法

発明者： 齋藤 幸正 ,  村田 等 ,  山本 博之
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (2件)： 木村 満 ,  古溝 聡
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-173542
公開番号（公開出願番号）：特開2000-223430
特許番号：特許第4426671号
出願日： 1999年06月21日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 被処理体を収納可能な反応室と、 前記反応室に接続された排気管を有し、前記反応室内のガスを排出するための排気手段と、 フッ化水素のガス源に接続されるHF用配管と、前記HF用配管に設置されて前記ガス源からのフッ化水素ガスの供給を制御するHF用バルブと、前記ガス源から前記HF用配管を通じて供給された前記フッ化水素を前記排気管内と前記反応室内との少なくとも一方に導くインレットと、を備えるHFガス供給手段と、 前記排気管を加熱する加熱手段と、 前記排気管内の圧力を制御する圧力制御手段と、 前記排気管に配置され、前記排気管内の反応生成物を除去するトラップ手段とを備え、 前記インレットは、前記排気管のトラップ手段近傍で、前記反応室からみた流路の上流側に配置されている、 ことを特徴とする熱処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/205 ( 200 6.01) ,  B01J 3/00 ( 200 6.01) ,  H01L 21/22 ( 200 6.01) ,  H01L 21/28 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01L 21/205 ,  B01J 3/00 N ,  H01L 21/22 511 S ,  H01L 21/28 301 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• クリーニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-317817   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 半導体装置製造装置及びそのクリーニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-115898   出願人：三菱電機株式会社
• 熱処理装置及び処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-325008   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 特開平2-061067