放射ビーム装置の被照射物カセット

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-286660
公開番号（公開出願番号）：特開2002-100550
特許番号：特許第3967534号
出願日： 2000年09月21日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】被照射物を異なる複数箇所において、カセット本体に取り付けられた複数対の上面支持部材と下面支持部材とで上下両面から挟んで被照射物を支持するように成した放射ビーム装置の被照射物カセットにおいて、前記各支持部材の少なくとも1つに被照射物に接触するように温度センサを設けた放射ビーム装置の被照射物カセット。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) , G01K 1/14 ( 200 6.01) , G03F 7/20 ( 200 6.01) , H01J 37/20 ( 200 6.01) , H01J 37/305 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01L 21/30 541 L , G01K 1/14 L , G03F 7/20 504 , H01J 37/20 A , H01J 37/305 B

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開昭57-190318
ウェハ保持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-347320 出願人：株式会社ニコン
基板熱処理装置および基板熱処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-075947 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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