特許
J-GLOBAL ID:201103029487005292
ターゲット装置およびこれを備えた中性子捕捉療法装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
長谷川 芳樹
, 黒木 義樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-052114
公開番号(公開出願番号):特開2011-185784
出願日: 2010年03月09日
公開日(公表日): 2011年09月22日
要約:
【課題】加速粒子の照射方向におけるターゲットの変形を抑制することが可能なターゲット装置およびこれを備えた中性子捕捉療法装置を提供する。【解決手段】ターゲット装置5は、陽子線Lの照射を受けて中性子Nを発生する物質からなる板状のターゲット10と、ターゲット10に対して陽子線Lの照射側とは反対側に位置するターゲット10の冷却板15とを備えたターゲット装置5であって、ターゲット10の照射方向への変形を抑制する固定部50を備えている。【選択図】図2
請求項(抜粋):
加速粒子の照射を受けて中性子を発生する物質からなる板状のターゲットと、前記ターゲットに対して前記加速粒子の照射側とは反対側に位置する前記ターゲットの冷却部とを備えたターゲット装置において、
前記ターゲットの前記照射方向への変形を抑制する固定部を備えていることを特徴とするターゲット装置。
IPC (3件):
G21K 5/08
, H05H 6/00
, A61N 5/10
FI (4件):
G21K5/08 C
, G21K5/08 N
, H05H6/00
, A61N5/10 H
Fターム (6件):
2G085AA11
, 2G085BA17
, 2G085BE02
, 2G085BE06
, 4C082AC07
, 4C082AE02
引用特許:
審査官引用 (2件)
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ターゲット装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-036302
出願人:住友重機械工業株式会社
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電子線照射装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-108894
出願人:日新ハイボルテージ株式会社
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