特許
J-GLOBAL ID：201103030065922487
液処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
樺澤 襄
, 島宗 正見
, 樺澤 聡
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-030123
公開番号（公開出願番号）：特開2001-219012
特許番号：特許第4380872号
出願日： 2000年02月08日
公開日（公表日）： 2001年08月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】工作機械より汚れた液を導入して液中の切粉を沈澱させるダーティ槽と、
ダーティ槽で沈澱処理された液をフィルタを経て循環させることで浄化処理しながら工作機械に戻すクリーン槽と、
フィルタの濾材洗浄時にフィルタより排出された汚れた液を導入し沈澱処理した後ダーティ槽に送出す洗浄汚液処理槽とを具備し、
ダーティ槽および洗浄汚液処理槽は、
これらの槽の底板部に沿ってそれぞれ移動可能に設けられ底板部に沈澱された切粉スラッジを外部へ掻出すスクレーパを備え、
少なくとも洗浄汚液処理槽は、
スクレーパが磁性板により形成され、
底板部が非磁性板により形成され、
底板部の下側にてスクレーパの移動方向に同極が対向するとともに移動方向と直角の幅方向に異極が対向するように配置された複数の磁石と、
これらの磁石を介して底板部と平行に配置された磁性底板と
を具備したことを特徴とする液処理装置。
IPC (5件)：
B01D 36/04 ( 200 6.01)
, B01D 21/18 ( 200 6.01)
, B01D 21/24 ( 200 6.01)
, B01D 29/62 ( 200 6.01)
, B23Q 11/00 ( 200 6.01)
B01D 36/04
, B01D 21/18 G
, B01D 21/24 H
, B01D 29/38 580 F
, B01D 29/38 580 D
, B23Q 11/00 U
