基板処理方法および基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：近藤利英子 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-307029
公開番号（公開出願番号）：特開2002-118085
特許番号：特許第3535820号
出願日： 2000年10月06日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板上に存在する有機物の除去方法であって、オゾンを含有したガスを超純水に溶解した水(以下オゾン水という)で基板を処理する工程と、水素を含有したガスを超純水に溶解した水(以下水素水という)で基板を処理する工程とを含み、オゾン水、または水素水で基板を処理する工程のいずれかの工程の前に、有機溶剤で基板の洗浄を行ない、これらの工程を連続的に行うことを特徴とする基板処理方法。

IPC (6件)：

H01L 21/304 641 , H01L 21/304 643 , H01L 21/027 , H05K 3/26 , B08B 3/12 , G03F 7/40

FI (6件)：

H01L 21/304 641 , H01L 21/304 643 A , H05K 3/26 E , B08B 3/12 , G03F 7/40 , H01L 21/30 572 B

引用特許：

出願人引用 (6件)

電子材料の洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-291027 出願人：栗田工業株式会社
半導体基板の洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-173923 出願人：三菱マテリアルシリコン株式会社, 三菱マテリアル株式会社
基板洗浄装置及び基板洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-247559 出願人：株式会社ウルトラクリーンテクノロジー開発研究所

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審査官引用 (8件)

電子材料の洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-291027 出願人：栗田工業株式会社
半導体基板の洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-173923 出願人：三菱マテリアルシリコン株式会社, 三菱マテリアル株式会社
基板洗浄装置及び基板洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-247559 出願人：株式会社ウルトラクリーンテクノロジー開発研究所

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