特許

J-GLOBAL ID：201103030950777699

ポリエチレン微多孔膜

発明者： 近藤 孝彦 ,  安達 理行 ,  池本 貴志
出願人/特許権者： 旭化成イーマテリアルズ株式会社
代理人 (4件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史 ,  江口 昭彦 ,  内藤 和彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-281111
公開番号（公開出願番号）：特開2002-088188
特許番号：特許第4573284号
出願日： 2000年09月18日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 気孔率40〜60%、突き刺し強度300〜1500g(厚さ25μm換算)、平均孔径0.1〜0.3μm、孔径分布指数が1.40〜2.2、電気抵抗が0.4〜1.0Ωcm2であることを特徴とするポリエチレン微多孔膜。

IPC (4件)：

C08J 9/26 ( 200 6.01) ,  H01M 2/16 ( 200 6.01) ,  H01M 10/05 ( 201 0.01) ,  C08L 23/06 ( 200 6.01)

FI (4件)：

C08J 9/26 CES ,  H01M 2/16 P ,  H01M 10/40 Z ,  C08L 23/06

引用特許：

出願人引用 (3件)

• ポリエチレン微多孔性隔膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-006372   出願人：旭化成工業株式会社
• 高分子量ポリオレフィン多孔フィルムおよびその製造 方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-329731   出願人：三井化学株式会社
• 微多孔膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-291251   出願人：旭化成工業株式会社

審査官引用 (2件)

• ポリエチレン微多孔性隔膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-006372   出願人：旭化成工業株式会社
• 高分子量ポリオレフィン多孔フィルムおよびその製造 方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-329731   出願人：三井化学株式会社