特許
J-GLOBAL ID：201103032329734881
温水引上乾燥装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
石原 詔二
, 石原 進介
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-100529
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284311
特許番号：特許第4404439号
出願日： 2000年04月03日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 温水を満たした水槽と、該水槽の底部に上下動可能に設置された支持装置と、該支持装置に設けられた複数個の支持部材と、該支持部材に刻設された多数の支持溝と、該水槽の内側面に取り付けられかつ基部と該基部から前方に突設された多数の櫛歯とから構成された櫛歯部材と、各櫛歯の間に通間隙と、を有し、
ウェーハを前記水槽内の温水に浸漬する際には、ウェーハの周縁部分が前記ウェーハ挿通間隙内に挿通するようにして前記支持部材に支持せしめ、温水に浸漬させたウェーハを引上乾燥する場合には、前記支持装置を徐々に上昇させてウェーハを徐々に温水から引上げてその引上げ中にウェーハ自体の有する熱によって乾燥するようにし、かつウェーハが温水から引上げられる際に、隣接するウェーハが温水の表面張力によって引張られても前記櫛歯によって邪魔されて隣接するウェーハ同士がくっつくことがないようにしたことを特徴とする温水引上乾燥装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ( 200 6.01)
, F26B 3/00 ( 200 6.01)
H01L 21/304 651 J
, F26B 3/00
