特許
J-GLOBAL ID：200903044811949410
基板自動処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
羽切 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-302978
公開番号（公開出願番号）：特開平8-139063
出願日： 1994年11月11日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：
【要約】【目的】 ガラス基板やシリコンウェハー等の基板を複数枚まとめてカセット内に収容した状態で処理槽内の処理液中に浸漬して洗浄処理等を施す基板自動処理装置において、処理槽から引き上げられる基板に対する処理液の付着を防止すること。【構成】 基板5が係合すべくカセットKに形成された受け溝21aの溝幅の中央位置に基板5を位置決めした状態で浸漬、引上げを行うこととし、以て上記の効果を得ている。
請求項（抜粋）：
基板の外周部が係合し得る受け溝が並設されて複数枚の基板を主面同士が略平行となるように整列して支持し得るカセットを保持手段により保持して処理槽に貯留された処理液に対する浸漬、引上げを行う昇降手段を備え、前記基板の少なくとも一部が該処理液に浸漬している間は前記基板を前記受け溝の溝幅の略中央位置に位置決めする位置決め手段を備えていることを特徴とする基板自動処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 3/04
, B08B 11/02
, G02F 1/1333 500
