特許
J-GLOBAL ID：201103033407426907
フォトレジスト材料
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 知
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-155597
公開番号（公開出願番号）：特開2001-337458
特許番号：特許第3967869号
出願日： 2000年05月26日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 キトサンと還元糖とを反応させることにより生成したキトサン誘導体に、重クロム酸系水溶液を接触させて得られることを特徴とするフォトレジスト材料。
IPC (4件)：
G03F 7/04 ( 200 6.01)
, C08B 37/08 ( 200 6.01)
, G03F 7/30 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/04
, C08B 37/08 Z
, G03F 7/30
, H01L 21/30 502 R
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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