特許
J-GLOBAL ID：200903050612417469

感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
林 理生

林 理生 について

, 
大西 廉伸

大西 廉伸 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-150243
公開番号（公開出願番号）：特開平7-146558
出願日： 1994年06月30日
公開日（公表日）： 1995年06月06日
要約：
【要約】【目的】レジスト材料として好適に用いられる感光性組成物であって、短波長の光源に対して高感度、高解像性であり、且つ膜の状態で相分離を生じることなく、安定して微細なレジストパターンを得ることの可能な感光性組成物を提供する。【構成】アルカリ可溶性重合体のアルカリ可溶性基を、酸に対して不安定な基によって保護してなる重合体と、光の照射により酸を発生する化合物と、イミダゾール化合物、アラニン化合物、アデニン化合物、アデノシン化合物、4級アンモニウム塩、及び含窒素糖類化合物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物であって、レジスト膜内の相溶性を高める化合物と、フェノール化合物とを含有する感光性組成物である。
請求項（抜粋）：
(a)アルカリ可溶性ポリマーのアルカリ可溶性基を酸に対して不安定な基によって保護してなるポリマー、(b)光の照射により酸を発生する化合物、及び(c)イミダゾール化合物、アラニン化合物、アデニン化合物、アデノシン化合物、4級アンモニウム塩化合物、及び含窒素糖類化合物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物であって、レジスト膜内の相溶性を高める化合物を含有する感光性組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/02
引用特許：
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (18件)
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