特許
J-GLOBAL ID:201103034149975050
セラミック基板のパターン形成方法
発明者:
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
加古 宗男
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-064199
公開番号(公開出願番号):特開2000-261127
特許番号:特許第3813030号
出願日: 1999年03月11日
公開日(公表日): 2000年09月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】セラミック基板の表層に微細パターンと幅広パターンを形成する方法において、
未焼成のセラミック基板の表層に導体ペーストで前記幅広パターンをスクリーン印刷する印刷工程と、
前記未焼成のセラミック基板と前記幅広パターンとを同時焼成する焼成工程 と、
焼成後のセラミック基板の表層に前記微細パターンを印刷するためのレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンの開口部に導体ペーストを充填して前記微細パターンを形成するペースト充填工程と
を含むセラミック基板のパターン形成方法。
IPC (2件):
H05K 3/12 ( 200 6.01)
, B41F 15/08 ( 200 6.01)
FI (2件):
H05K 3/12 610 M
, B41F 15/08 303 E
引用特許:
出願人引用 (3件)
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特開平3-119788
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導体パターンの形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-067276
出願人:住友金属工業株式会社, 株式会社住友金属セラミックス
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セラミック多層配線基板およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-088571
出願人:株式会社住友金属エレクトロデバイス, 住友金属工業株式会社
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