特許
J-GLOBAL ID:201103034149975050

セラミック基板のパターン形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 加古 宗男
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-064199
公開番号(公開出願番号):特開2000-261127
特許番号:特許第3813030号
出願日: 1999年03月11日
公開日(公表日): 2000年09月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】セラミック基板の表層に微細パターンと幅広パターンを形成する方法において、 未焼成のセラミック基板の表層に導体ペーストで前記幅広パターンをスクリーン印刷する印刷工程と、 前記未焼成のセラミック基板と前記幅広パターンとを同時焼成する焼成工程 と、 焼成後のセラミック基板の表層に前記微細パターンを印刷するためのレジストパターンを形成する工程と、 前記レジストパターンの開口部に導体ペーストを充填して前記微細パターンを形成するペースト充填工程と を含むセラミック基板のパターン形成方法。
IPC (2件):
H05K 3/12 ( 200 6.01) ,  B41F 15/08 ( 200 6.01)
FI (2件):
H05K 3/12 610 M ,  B41F 15/08 303 E
引用特許:
出願人引用 (3件)

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