特許

J-GLOBAL ID：201103034608841879

アクティブマトリクス基板、電気光学装置、およびアクティブマトリクス基板の製造方法

発明者： 竹中 敏
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 鈴木 喜三郎 ,  上柳 雅誉 ,  須澤 修
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-065220
公開番号（公開出願番号）：特開2000-259099
特許番号：特許第3702696号
出願日： 1999年03月11日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板上にトランジスタおよび信号配線が形成されたアクティブマトリクス基板において、 前記基板上における前記トランジスタおよび前記信号配線が形成されていない領域の少なくとも一か所に、前記トランジスタのチャネル領域およびゲート絶縁膜とそれぞれ同層の膜質検査用半導体膜および膜質検査用絶縁膜が積層された膜質検査部が形成されてなることを特徴とするアクティブマトリクス基板。

IPC (6件)：

G09F 9/30 ,  G02F 1/1368 ,  G09G 3/38 ,  H01L 21/66 ,  H01L 27/12 ,  H01L 29/786

FI (8件)：

G09F 9/30 338 ,  G09G 3/38 ,  H01L 21/66 Y ,  H01L 21/66 Z ,  H01L 27/12 T ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 29/78 612 A ,  H01L 29/78 624

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 半導体装置の検査パターンおよび半導体装置の検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-149586   出願人：日本電気株式会社
• 液晶表示装置及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-164508   出願人：日本電気株式会社