特許
J-GLOBAL ID：201103035065412057
チタン(II)又はジルコニウム(II)錯体の製造法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
斉藤 武彦
, 畑 泰之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-579609
特許番号：特許第4510291号
出願日： 1999年09月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 式
(式中、Mは、+2形式酸化状態のチタン又はジルコニウムであり;
Zは、Z基がそれを介してMに結合している非局在化π-電子を含む環状基を有するアニオン性基であって、該Z基はまた共有結合、共与結合又は2価の橋かけ基を介してZ’にも結合しており、該Z基は水素を除いて60個以内の原子を有し;
Z’は、第二のZ基であるか、又は硼素もしくは元素の周期律表の14族の1員を含みそしてまた窒素、燐、硫黄又は酸素をも含む共有又は共与結合を介してMに結合する基であり、該Z’基は水素を除いて60個以内の原子を有し;
Dは、中性の共役ジエンであって、所望により1個以上のヒドロカルビル基で置換されていてもよく、該Dは40個以内の炭素原子を有し;
X’は、アミン、ホスフィン及びエーテルから選ばれる中性のルイス塩基リガンドであって、該X’は水素を除いて3-20個の原子を有し;そして
nは、0-3の数である)
に相当する金属錯体を製造する方法であって、該方法は式
(式中、M* は、+3形式酸化状態のチタン又はジルコニウムであり;
M**は、+4形式酸化状態のチタン又はジルコニウムであり;
X* は、ハライド又はC1-20ヒドロカルビルオキシドであり;そして
Z、Z’、X’及びnは前記同様である)
に相当する金属錯体をDに相当する遊離のジエンと接触させ、次に又は同時に得られる反応混合物をジ(C1-20アルキル)マグネシウム化合物と接触させて所望の金属錯体を形成することからなる方法。
IPC (2件)：
C07F 17/00 ( 200 6.01)
, C07F 19/00 ( 200 6.01)
