特許

J-GLOBAL ID：201103035496259388

ペロブスカイト型酸化物薄膜形成用原料溶液及びペロブスカイト型酸化物薄膜の形成方法

発明者： 牧 一誠 ,  藤田 悟史 ,  曽山 信幸
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-248733
公開番号（公開出願番号）：特開2001-072416
特許番号：特許第4062831号
出願日： 1999年09月02日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 Pbを含有するペロブスカイト型酸化物薄膜を成膜するための原料溶液において、 該溶液中にシリコーンを含有することを特徴とするペロブスカイト型酸化物薄膜形成用原料溶液。

IPC (5件)：

C01G 21/00 ( 200 6.01) ,  C01B 13/32 ( 200 6.01) ,  C01G 25/00 ( 200 6.01) ,  C07F 7/24 ( 200 6.01) ,  H01B 3/12 ( 200 6.01)

FI (5件)：

C01G 21/00 ,  C01B 13/32 ,  C01G 25/00 ,  C07F 7/24 ,  H01B 3/12 301

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 高純度誘電体薄膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-024293   出願人：三菱マテリアル株式会社
• セラミックス薄膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-101714   出願人：東洋インキ製造株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• ゾルゲル法によるシングルコートPZT厚膜及びそのゾルゲル液の作製と評価