特許
J-GLOBAL ID：201103035816083755
アクティブマトリックス層および転写方法
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
保科 敏夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-181430
公開番号（公開出願番号）：特開2001-356710
特許番号：特許第3682714号
出願日： 2000年06月16日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】プラスチック材料からなるシート基板の一面に接着層を介して転写の結果支持されたアクティブマトリックス層であって、そのアクティブマトリックス層は、前記基板の一面にマトリックス状に配列された多数の画素部と、各画素部の周縁を走り、各画素部に信号を与えるためのバスラインとを備え、前記画素部には、各画素部に対応して形成された画素電極と、各画素電極に対して接続された薄膜アクティブ素子とを含み、さらに、次の各特徴要件を備える、アクティブマトリックス層。a.前記薄膜アクティブ素子の電極を支持するバッファ層があり、そのバッファ層は、前記薄膜アクティブ素子が占める領域部分だけでなく、前記画素電極の領域部分にもわたり、その厚さが数十nmである。b.前記画素電極と前記バッファ層の上下二面のうち、一方の面が前記転写のための剥離層に接する側である。c.前記画素電極の他方の面、および前記バッファ層の他方の面上の前記薄膜アクティブ素子の上を有機保護膜が被っている。
IPC (6件)：
G09F 9/30
, G02F 1/1333
, G02F 1/1368
, G09F 9/00
, H01L 21/336
, H01L 29/786
G09F 9/30 338
, G09F 9/30 349 B
, G02F 1/1333 500
, G09F 9/00 338
, G02F 1/136 500
, H01L 29/78 612 D
, H01L 29/78 619 A
, H01L 29/78 626 C
, H01L 29/78 627 D
