特許
J-GLOBAL ID：201103036227229843
オゾン処理装置及びオゾン処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木村 満
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-369430
公開番号（公開出願番号）：特開2001-179079
特許番号：特許第4361179号
出願日： 1999年12月27日
公開日（公表日）： 2001年07月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 被処理体をオゾン処理するオゾン処理装置であって、
前記被処理体をオゾン処理する処理領域と、該処理領域の一方側の第1の非処理領域と、前記処理領域の他方側の第2の非処理領域と、前記第1の非処理領域および前記第2の非処理領域に通じる第3の非処理領域と、を有する処理室と、
その先端が前記第1の非処理領域に位置するように前記処理室に挿通され、前記第1の非処理領域から前記第3の非処理領域を介して前記第2の非処理領域に到達するように、前記処理室内にオゾンを供給する少なくとも一つのオゾン供給管と、
前記オゾン供給管に接続されたオゾン供給手段と、
前記第1の非処理領域に設けられ、前記処理室内のガスを排気する排気口と、
前記排気口に接続され、前記処理室内のガスを排気することにより、前記第2の非処理領域に到達したオゾンを前記処理領域に供給する排気手段と、
を備える、ことを特徴とするオゾン処理装置。
IPC (3件)：
B01J 19/00 ( 200 6.01)
, H01L 21/31 ( 200 6.01)
, H01L 21/316 ( 200 6.01)
B01J 19/00 K
, H01L 21/31 B
, H01L 21/31 E
, H01L 21/316 S
