特許
J-GLOBAL ID：201103036546633150

シリコーン含有組成物および膜形成用組成物

発明者：
山田 欣司

山田 欣司 について

, 
西川 通則

西川 通則 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-150361
公開番号（公開出願番号）：特開2001-329218
特許番号：特許第4568959号
出願日： 2000年05月22日
公開日（公表日）： 2001年11月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A)下記一般式(1)で表される化合物およびその加水分解縮合物もしくはいずれか一方を含有することを特徴とするシリコーン含有組成物を含有することを特徴とする膜形成用組成物。 R1a(R2O)3-aSiC≡CSi(OR3)3-b R4b ・・・・・(1) (式中、R1およびR4は同一または異なり、それぞれ水素原子、フッ素原子または1価のアルキル基、アリール基、アリル基、またはグリシジル基、R2およびR3は1価のアルキル基、アリール基、アリル基、またはグリシジル基、aおよびbは同一または異なり、0〜2の整数を示す。)
IPC (4件)：
C09D 183/14 ( 200 6.01) ,  C08G 77/50 ( 200 6.01) ,  C09D 183/02 ( 200 6.01) ,  C09D 183/04 ( 200 6.01)
FI (4件)：
C09D 183/14 ,  C08G 77/50 ,  C09D 183/02 ,  C09D 183/04
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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引用文献：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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