特許
J-GLOBAL ID：201103037295591875
小さな特徴を維持するライン幅補正を用いた三次元物体を形成する方法および装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
佐久間 剛
, 柳田 征史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-009785
公開番号（公開出願番号）：特開2000-272015
特許番号：特許第4002045号
出願日： 2000年01月19日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 媒質の連続層を、硬化幅を形成する所定の刺激のビームに露出することにより、複数の付着した薄層から三次元物体を形成する方法であって、
三次元物体を表すデータを提供する工程、
該データを操作して、前記三次元物体を形成するための変更物体データを作成する工程であって、(1)隣接したセグメントの対により形成された角度と、(2)少なくとも三つの角度の範囲に基づく、または少なくとも一つの角度の範囲に基づく可変ずれ基準および少なくとも三つの角度の範囲に基づく二つの一定のずれ基準に基づく可変ずれ基準との組合せにより決定される量だけ内側に前記境界を形成する隣接セグメントの頂点を移動させることにより、データをずらして、前記ビームにより誘発される前記媒質中の硬化幅を補正する工程を含む工程、
前記物体のその後の薄層を形成する準備のために、いずれの最後に形成された材料の層に隣接して前記媒質から材料の層を形成する工程、
該材料を前記所定の刺激のビームに露出して、前記物体の連続薄層を形成する工程、
複数の付着した薄層から前記物体を形成するために、形成および露出の作業を複数回繰り返す工程、
を含むことを特徴とする方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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