特許
J-GLOBAL ID：201103037662723333
光触媒膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (3件)：
大島 泰甫
, 稗苗 秀三
, 後藤 誠司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-104914
公開番号（公開出願番号）：特開2000-296332
特許番号：特許第4521644号
出願日： 1999年04月13日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 イオン、電子、ラジカル、プラズマのうちいずれか1つあるいは複数の励起線を使用し、その励起線における荷電粒子の運動エネルギーを200eV以下とし、その励起線をプラスチック製基板に照射しながら、金属原料または金属酸化物を蒸着法またはスパッタ法によって基板上に成膜して金属酸化物からなる光触媒膜を形成する光触媒膜の形成方法であって、前記基板上に光触媒作用を受けないフッ素樹脂膜あるいはシリコーン樹脂膜からなる緩衝膜を形成し、この上に前記光触媒膜を形成することを特徴とする光触媒膜の形成方法。
IPC (6件)：
B01J 35/02 ( 200 6.01)
, B01J 31/06 ( 200 6.01)
, B01J 37/02 ( 200 6.01)
, C23C 14/08 ( 200 6.01)
, B32B 27/00 ( 200 6.01)
, B32B 27/30 ( 200 6.01)
B01J 35/02 J
, B01J 31/06 M
, B01J 37/02 301 P
, C23C 14/08 E
, B32B 27/00 101
, B32B 27/30 D
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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