特許
J-GLOBAL ID:201103037781599764

水素及び酸素の再結合触媒、再結合装置及び原子力プラント

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): ポレール特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-103115
公開番号(公開出願番号):特開2011-230064
出願日: 2010年04月28日
公開日(公表日): 2011年11月17日
要約:
【課題】有機ケイ素化合物を含むガスと接触した場合でも触媒性能を向上できる再結合装置を提供する。【解決手段】再結合装置6は沸騰水型原子力プラントのオフガス系に設けられる。復水器3に接続されたオフガス系配管15は、再結合装置6に接続される。水素及び酸素の再結合触媒が充填された触媒層7が、再結合装置6内に配置される。その再結合触媒は、直径が0nmより大きく20nmの範囲内にあるPt粒子の数に対する、直径が1nmより大きく3nm以下の範囲内にあるPt粒子の数の割合が、20〜100%の範囲内に存在する。復水器3から排出された、有機ケイ素化合物(例えば、D5)、水素及び酸素を含むガスが、再結合装置6に導かれる。上記の再結合触媒を用いることによって、水素と酸素の再結合性能を従来の触媒よりも向上でき且つ触媒の初期性能をより長い期間にわたって維持することができる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
多孔質担体と、前記多孔質担体に担持された触媒金属とを備え、直径が0nmより大きく20nmの範囲内にある前記触媒金属の粒子数に対する、直径が1nmより大きく3nm以下の範囲内にある前記触媒金属の粒子数の割合が、20〜100%の範囲内に存在することを特徴とする水素及び酸素の再結合触媒。
IPC (3件):
B01J 23/89 ,  G21F 9/02 ,  G21D 1/02
FI (3件):
B01J23/89 M ,  G21F9/02 541A ,  G21D1/02 U
Fターム (33件):
4G169AA03 ,  4G169BA01A ,  4G169BA01B ,  4G169BA02A ,  4G169BA04A ,  4G169BA07A ,  4G169BA18 ,  4G169BB02B ,  4G169BB04A ,  4G169BC33A ,  4G169BC58B ,  4G169BC68B ,  4G169BC70A ,  4G169BC71A ,  4G169BC72A ,  4G169BC74A ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169CB81 ,  4G169CC31 ,  4G169DA06 ,  4G169EA02X ,  4G169EA08 ,  4G169EB11 ,  4G169EB18X ,  4G169EC22X ,  4G169EC22Y ,  4G169FA02 ,  4G169FB14 ,  4G169FB27 ,  4G169FB31 ,  4G169FB44 ,  4G169FB57
引用特許:
審査官引用 (7件)
全件表示
引用文献:
前のページに戻る