特許
J-GLOBAL ID：201103038274877848
光ディスク用基板の製造方法とその作製装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
作田 康夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-364544
公開番号（公開出願番号）：特開2002-170290
特許番号：特許第3399459号
出願日： 2000年11月27日
公開日（公表日）： 2002年06月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】表面に凹凸のある、主鎖に酸素原子をもつプラスチック材料を有する光ディスク用基板に、酸素を含むガスを流し、前記光ディスク用基板上に主波長が185nmの光を遮蔽し、主波長が254nmの波長の紫外線を照射して、前記ポリカーボネイトの表面改質を行うことを特徴とする光ディスク用基板の製造方法。
IPC (6件)：
G11B 7/26
, C08J 7/00 304
, C08J 7/00 CFD
, G11B 7/24 526
, G11B 7/24 531
, C08L 69:00
G11B 7/26
, C08J 7/00 304
, C08J 7/00 CFD
, G11B 7/24 526 G
, G11B 7/24 531 D
, C08L 69:00
