特許
J-GLOBAL ID：201103039044227964
表面検査方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-006242
公開番号（公開出願番号）：特開2000-206050
特許番号：特許第4110653号
出願日： 1999年01月13日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 被検物体の表面に形成されたパターンの検査を行う表面検査方法であって、
前記被検物体の表面にほぼ平行光束よりなる照明光を照射し、互いに異なる複数の回折条件でそれぞれ前記被検物体の表面からの回折光による前記表面の像を検出し、該検出された像に前記複数の回折条件に応じてそれぞれ前記被検物体の表面から発生する回折光の方向に対応する方向の倍率補正を行い、
該補正後の複数の像情報の論理和に基づいて前記被検物体の表面のパターンの検査を行うことを特徴とする表面検査方法。
IPC (2件)：
G01N 21/956 ( 200 6.01)
, H01L 21/66 ( 200 6.01)
G01N 21/956 A
, H01L 21/66 J
