特許
J-GLOBAL ID：201103039966990896
ナノファイバ製造装置、および、ナノファイバ製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
新居 広守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-271614
公開番号（公開出願番号）：特開2011-140740
出願日： 2010年12月06日
公開日（公表日）： 2011年07月21日
要約：
【課題】均一な膜厚で品質も均一なナノファイバの堆積物を製造する。【解決手段】原料液300を空間に流出させる流出孔118を有する流出体115と、流出体115と所定の間隔を隔てて配置される帯電電極128と、流出体115と帯電電極128との間に所定の電圧を印加する帯電電源122と、空間中で製造されたナノファイバ301を誘引する電界を発生させる誘引電極121であって、誘引したナノファイバ301を堆積させる面状の堆積領域Aを表面に有する誘引電極121と、誘引電極121に所定の電位を印加する誘引電源123と、堆積領域Aにおける堆積したナノファイバによる抵抗値のばらつきを抑制する堆積領域A全体に配置される絶縁層101とを備える。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
ナノファイバを製造するための原料液を空間中で電気的に延伸させてナノファイバを製造するナノファイバ製造装置であって、
原料液を空間に流出させる流出孔を有する流出体と、
前記流出体と所定の間隔を隔てて配置され、前記流出体を帯電させる帯電電極と、
前記流出体と前記帯電電極との間に所定の電圧を印加する帯電電源と、
空間中で製造されたナノファイバを誘引する電界を発生させる誘引電極であって、誘引したナノファイバを堆積させる面状の堆積領域を表面に有する誘引電極と、
前記誘引電極に所定の電位を印加する誘引電源と、
前記堆積領域における堆積したナノファイバによる抵抗値のばらつきを抑制する前記堆積領域全体に配置される絶縁層と
を備えるナノファイバ製造装置。
IPC (3件)：
D01D 5/04
, D01F 6/00
, D04H 1/72
D01D5/04
, D01F6/00 A
, D04H1/72 C
4L035AA07
, 4L035BB02
, 4L035DD13
, 4L035FF05
, 4L045AA01
, 4L045AA08
, 4L045BA34
, 4L045BA60
, 4L045CB01
, 4L045DA45
, 4L045DA60
, 4L047AB03
, 4L047AB08
, 4L047BA10
, 4L047CB10
, 4L047EA22
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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