特許

J-GLOBAL ID：201103041365887316

基板乾燥装置

発明者： 井上 和久 ,  小木曽 正敏
出願人/特許権者： 株式会社 シーズ
代理人 (1件)： 飯田 昭夫 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-140125
公開番号（公開出願番号）：特開2000-332380
特許番号：特許第3531054号
出願日： 1999年05月20日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 上槽部、中槽部、下槽部を有して構成され、前記中槽部は、乾燥工程を備える加熱室と、冷却工程を備える冷却室とが形成され、前記中槽部には、投入コンベアから搬入されるとともに前記加熱室及び前記冷却室を挿通するように液状レジストが塗布されて保持部材に保持された基板を搬送する乾燥部コンベアが配設され、前記上槽部には、前記基板が取り外された保持部材を復帰するためのリターンコンベアが配設され、前記下槽部には、前記加熱室を加熱するための加熱手段及び乾燥された前記基板を前記保持部材に保持された状態でストックするためのバッファコンベアが配設され、前記基板は、投入コンベアから前記乾燥部コンベアに搬入される際、前記リターンコンベアから移載された保持部材に装着側移載手段により搬入されて前記乾燥部コンベアで搬送された後、取出側移載手段により前記保持部材に保持された状態で前記バッファコンベアに移動するか、あるいは、前記保持部材から取り外された状態で搬出コンベアに搬出されるかのいずれかに選択されるように搬送されることを特徴とする基板乾燥装置。

IPC (5件)：

H05K 3/06 ,  B05C 9/12 ,  B05C 13/02 ,  F26B 15/00 ,  H05K 3/28

FI (5件)：

H05K 3/06 E ,  B05C 9/12 ,  B05C 13/02 ,  F26B 15/00 E ,  H05K 3/28 E

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-132689   出願人：東京化工機株式会社
• レジスト乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-106113   出願人：東京化工機株式会社

審査官引用 (2件)

• 乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-132689   出願人：東京化工機株式会社
• レジスト乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-106113   出願人：東京化工機株式会社