特許

J-GLOBAL ID：201103041728760623

スピン処理装置およびスピン処理方法

発明者： 土井 敏 ,  廣瀬 治道
出願人/特許権者： 芝浦メカトロニクス株式会社
代理人 (6件)： 鈴江 武彦 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  河井 将次
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-094011
公開番号（公開出願番号）：特開2000-286219
特許番号：特許第4298840号
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板を回転させて処理するスピン処理装置において、 処理チャンバと、 この処理チャンバ内に設けられたカップ体と、 このカップ体内に設けられ上記基板を保持して駆動源により回転駆動される回転テーブルと、 フィルタ及び送風機を有しこの送風機の回転によって上記フィルタを通じて外気を上記処理チャンバに導入する外気導入手段と、 上記処理チャンバに接続された排気路及びこの排気路に設けられたダンパを有しこのダンパの開度によって上記処理チャンバからの排気量を制御する排気手段と、 上記回転テーブルの回転速度の変化に応じて上記外気導入手段による外気の導入量または上記排気手段による排気量の少なくともいずれか一方を制御して上記処理チャンバ内の圧力を制御する制御手段と を具備したことを特徴とするスピン処理装置。

IPC (1件)：

H01L 21/304 ( 200 6.01)

FI (2件)：

H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 651 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-100408   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 乾燥方法および乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-212248   出願人：株式会社日立製作所
• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-330620   出願人：大日本スクリーン製造株式会社