特許

J-GLOBAL ID：200903018245203090

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

発明者： ムルダー,ハイネ,メレ ,  ユーリングズ,マーカス,フランシスカス,アントニアス
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-035613
公開番号（公開出願番号）：特開2007-227918
出願日： 2007年02月16日
公開日（公表日）： 2007年09月06日
要約：

【課題】柔軟性の高い偏光照明モードを作り出すように構成されたリソグラフィ装置およびデバイス製造方法を提供。【解決手段】アレイ14の反射素子14bはリダイレクト光学系15を介して中間面16に向けてサブビームを反射する。リダイレクト光学系(たとえば集束レンズ)は該サブビームをイルミネータの中間面の所望の領域に向ける。断面16は二次的放射ソースとして機能する瞳面と一致してよい。さらに、反射素子14c、14dは、図示されている他の2つのサブビームを、リダイレクト光学系15を介して面16の他の領域に向けて反射する。反射素子14aないし14eの配向を調整してサブビームが入射する面16の領域を決定することにより、該断面におけるほとんどすべての空間強度分布を生成することができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

照明モードに従って放射ビームの強度分布を定義するよう構成された反射素子のアレイと、 該ビームの経路上の反射素子のアレイの前に配置され、該放射ビームに偏光を与えるよう構成された偏光部材と、 を備える照明システム、 パターニングデバイスを支持するよう構成された支持構造体であって、該パターニングデバイスは所望のパターンに従って該ビームにパターン付けするよう構成されている支持構造体、 基板を保持するよう構成された基板テーブル、および、 パターン付けされたビームを該基板のターゲット部分に投影するよう構成された投影システム、 を備えるリソグラフィ装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G02B 5/30

FI (2件)：

H01L21/30 515D ,  G02B5/30

Fターム (10件)：

2H049BA02 ,  2H049BA03 ,  2H049BB05 ,  2H049BC21 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB05 ,  5F046CB13 ,  5F046CB15 ,  5F046CB23

引用特許：

審査官引用 (4件)

• リトグラフ装置、デバイス製造方法、その方法により製造されたデバイス、制御システム、コンピュータ・プログラムおよびコンピュータ・プログラム製品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-157048   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-023744   出願人：三菱電機株式会社
• リソグラフィ補正システム、リソグラフィ補正方法及び半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-033376   出願人：株式会社東芝
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-176880   出願人：株式会社ニコン