特許
J-GLOBAL ID:201103041829916691
フォトリソグラフィープロセスを制御するための方法およびシステム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
河村 洌
, 藤森 洋介
, 谷 征史
, 佐木 啓二
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-198874
公開番号(公開出願番号):特開2000-223413
特許番号:特許第4601744号
出願日: 1999年07月13日
公開日(公表日): 2000年08月11日
請求項(抜粋):
【請求項1】 一定の加工結果を提供するためにその作業領域を加工するために仕掛品に適用される加工ツールの少なくとも1つの作業パラメータの自動光学制御用測定ツールであって、前記作業パラメータが、加工中の仕掛品の少なくとも1つのパラメータに影響を及ぼし、加工の前に前記少なくとも1つの作業パラメータの事前設定値を有し、
(1)加工ツールの加工と類似した仕掛品の加工をするために適応され、前記加工ツールの作業パラメータに対して所定の比率に設定される作業パラメータを有する加工チャネルと、
(2)仕掛品の前記少なくとも1つのパラメータを測定し、それを表す測定済みデータを生じさせるために適応されている測定チャネルと、
(3)前記加工チャネルに関連するアクチュエータであって、それらの内の1つを選択式で作動するためのアクチュエータと、
(4)イメージング光学部品およびセンサを含むイメージングチャネルであって、前記測定チャネルが作動されると作動されるイメージングチャネルと、
(5)仕掛品の前記少なくとも1つのパラメータを求め、分析するために前記測定済みデータに反応し、前記仕掛品に加工ツールを適用するときに前記一定の加工結果を入手するために、仕掛品の加工の前に加工ツールの加工パラメータに適用される補正値を計算するプロセッサを備え、前記測定チャネルおよび前記イメージングチャネルに結合されている制御装置
とを備えてなる自動光学制御用測定ツール。
IPC (2件):
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
FI (2件):
H01L 21/30 516 D
, G03F 7/20 521
引用特許:
出願人引用 (4件)
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特開平3-048419
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露光パターン形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-048909
出願人:株式会社日立製作所
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半導体集積回路装置の製造方法および製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-291949
出願人:株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
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特開昭64-052161
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審査官引用 (4件)